開発者に聞く

この記事は「ひたち」2006年秋号「HITACHI FILE talk＋（トーク・プラス）　西内 重治、宮内 昭浩」より転載したものです。

ナノインプリント――ナノ構造の低コスト・大量複製を可能に

ナノインプリント（nanoimprint）とは、金型（スタンパー）を用いてプレス加工の要領でナノ構造を転写する技術のこと（imprintは「押印」）。転写する凹凸の溝の幅は、わずか数nm （ナノメートル）〜数百nm。1nmは10億分の1m、ちょうどアミノ酸やウイルスなどの大きさだ。この技術が米国で発表されたのが1995年、半導体分野で注目され始めたのが2000年のことだが、日立研究所では1999年から技術開発に取り組んでいる。
日立製作所 トータルソリューション事業部 プロジェクト統括本部 ナノプリントソリューションセンタ センタ長　西内 重治	日立製作所 材料研究所 電子材料研究部 ナノプリントストラテジックソリューションユニットリーダ 主任研究員　宮内 昭浩

※クリックして拡大図をご覧下さい

［ナノインプリント転写例］ 高アスペクト比のナノインプリント（アスペクト比20）。ナノ金型の凹凸よりもアスペクト比（縦横比）の高い、つまり彫りの深い構造を形成する。 （2006年12月20日掲載）

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